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IC光刻设备、FPD曝光设备
- 分類：IC装备及红外光学
- 發佈時間：2020-05-25 00:00:00
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概要:谈球吧光学制造的精密紫外光学薄膜器件均采用高能离子辅助沉积工艺，可以耐受400℃以上的高温且性能稳定。
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IC半導體光刻設備及FPD平面顯示器曝光設備中使用的精密光學薄膜器件對光學鏡面精度和光譜反射效率、耐用性有极苛刻的使用要求。光源长时间不间断工作，紫外线的辐射损伤对反射镜的膜层寿命要求高。谈球吧光学制造的精密紫外光学薄膜器件均采用高能离子辅助沉积工艺，可以耐受400℃以上的高溫且性能穩定。
产品类型：大尺寸椭球反射镜、45°平面反射鏡、介质膜反射镜、铝增强反射镜、365nm通帶濾光片、截止滤光片、分色镜、光配向反射镜。
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